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真空鍍膜機各種鍍膜方式的工作原理

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真空鍍膜機各種鍍膜方式的工作原理

發布日期:2016-07-27 作者: 點擊:

真空鍍膜機各種鍍膜方式的工作原理

真空鍍膜機按鍍膜方式主要可分為:蒸發式鍍膜,磁控濺射鍍膜和離子鍍。

真空鍍膜機


蒸發式鍍膜

蒸發鍍膜工作原理是將膜材置于真空鍍膜室內,通過蒸發源加熱使其蒸發,當蒸發分子的平均自由程大于真空鍍膜室 的線性尺寸,蒸汽的原子和分子從蒸發源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的沖擊與阻礙,可直接到達被鍍的基片表面,由于基片溫度較低,便凝結其上而成膜。

磁控濺射鍍膜

濺射鍍膜的形成是利用真空輝光放電,加速正離子使其轟擊靶材表面引起的濺射現象,使靶材表面放出的粒子沉積到基片上而形成薄膜。

離子鍍

多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計數用于蒸發源的技術,即在真空環境下引燃蒸發源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點放出陰極物質的離子。由于電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極材料局部的爆發性地等離子化,在工作偏壓的作用下與反應氣體化合,而沉積在工件表面是形成被鍍的膜層。


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