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UV真空鍍膜機成膜不均因素

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UV真空鍍膜機成膜不均因素

發布日期:2016-07-27 作者: 點擊:

隨著鍍膜技術的發展,各類真空鍍膜機也逐漸出現,不管是哪種真空鍍膜機,薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響?,F在,我們就以磁濺射真空鍍膜機來分析成膜不均勻的因素。

鍍膜機抽氣不均會影響鍍膜均勻性?;蓛艉苤匾?。真空鍍膜前要將基片表面認真清潔干凈,達到工件去油、去污和脫水的目的?;灞砻嫖廴緩牧慵诩庸?,運輸等過程中附著的各種各樣的灰塵、油脂、拋光膏、汗漬等,在潮濕環境下,基片表面易氧化,形成氧化膜吸附氣體。對于這些污物,都能用去油或化學方法清洗干凈。干凈的基片不要直接放在外面,需要用封閉容器存放,減少沾污。鍍膜室內也是會積灰的,所以要清洗鍍膜室內,烘烤除氣,并將機器放置在干凈的環境里。注意擴散泵返油。鍍膜的原材料有很多,如樹脂、硅酮、硅鹽酸、聚合物等,輔料、配方的比列有所不同,薄膜也不同。

以上就是真空鍍膜機成膜不均勻的因素。

UV真空鍍膜機


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